招標編號: | CB119872021000374 |
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加入日期: | 2021.08.15 |
截止日期: | 2021.08.18 |
招標業主: | 南京信息工程大學 |
地 區: | 江蘇省 |
內 容: | 基本信息: 發布時間:****-**-** **:**:** 截止時間:****-**-** **:**:** 申購單號:***************** 申購主題:反應離子刻蝕機(RIE) 采購單位:******** 報價要求:國產含稅 發票類型:增值稅專用發票 幣種:人民幣 預算: 付款方式: |
基本信息:
發布時間:2021-08-15 08:01:21
截止時間:2021-08-18 08:09:20
申購單號:CB119872021000374
申購主題:反應離子刻蝕機(RIE)
采購單位:南京信息工程大學
報價要求:國產含稅
發票類型:增值稅專用發票
幣種:人民幣
預算:
付款方式:貨到驗收合格后付款
備注說明:H-2021-0028
簽約時間:發布中標結果后7天內簽約合同
送貨時間:合同簽訂后60天內送達
安裝要求:免費上門安裝(含材料費)
收貨地址:***
申購明細:
采購內容 | 數量 | 單位 | 預算單價 | 品牌 | 型號 | 規格參數 | 質保及售后服務 |
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反應離子刻蝕機 | 1 | 臺 | 1.具有可調功率(0-500W)、氣體流量可調(4路氣體可獨立控制O2、Ar、SF6、CHCl3)等能力; 2.樣片數量及尺寸:單片Ф6英寸以上; 3. 刻蝕材料:包括并不限于單晶硅、多晶硅、SiO2、Si3N4、Ti、W、聚合物等; 4. 刻蝕腔體:高真空系統,抽真空40min能達到8x10E-4Pa,極限真空到9*10E-5Pa, 5.系統漏率,關機后10小時,腔內真空度小于5Pa; 6. 刻蝕不均勻性:±3%-±6% 7. 刻蝕速率:0.1-2μm/min(視具體材料與工藝) 8. 工作臺:可升降(可選,有最好),包含水冷; 9. 電源配置:下電極偏壓,包含自動匹配器; 10. 操作模式:全自動+半自動控制,能自動控制保持腔內氣壓在設定工作氣壓; 11. 報價包括:系統及附屬配件,即安裝好就能夠正常工作。 | 3年質保。 |
報價地址:***