磁控濺射鍍膜機競價公告

保修期：

12個月

產品規格：

1、設備可完成各種單層膜、多層膜和共濺射生長混合膜的制備。提供濺射各種鐵磁材料（CoFe）、硬質膜（TiN等）、金屬膜（Ru、Au、Ag、Al、Cu、Pt等）、金屬氧化物（TiO2、ZnO、ITO、FTO等）的鍍膜工藝。 2、真空室為立式圓柱形腔體，電動上開蓋或前開門結構；腔體尺寸：約Φ400(mm)×H400（mm）；前開門配觀察窗（含防污板）；鍍膜室所有焊縫連接均采用氬弧焊接技術；鍍膜室進行內表面拋光，外表面電解處理。 3、濺射室極限真空度：≤8.0x10-6Pa(經烘烤除氣后)；系統真空檢漏漏率：≤5.0x10-7Pa.l/S。 4、系統從大氣開始抽氣：濺射室30分鐘可達到6.0x10-4Pa；系統停泵關機12小時后真空度：≤1Pa。 5、高真空泵為國際知名品牌高性能分子泵，抽速不小于800L/S；低真空泵為雙極旋片泵，抽速不小于9L/S；高真空閥門6英寸插板閥全套；其它氣動閥門全套。 6、基片尺寸：4英寸或在4英寸的范圍內分成若干個小基片；基片溫度：室溫-600℃，溫控表控溫，控溫精度±1℃，可控可調；基片公轉由調速電機驅動，0-30轉/分，連續可調。 7、濺射室中配有3套高性能永磁磁控靶，磁控靶配有旋轉氣動擋板結構，可以實現自動開關靶擋板。并可以監測膜厚；靶與樣品距離:90mm～130mm。 8、1臺500w全自動匹配射頻電源和2臺500w數字式直流電源。 9、氣體流量控制：兩路工藝氣體（氬氣和氧氣），采用流量計控制，最大流量100sccm，集成到主控系統控制。 10、在4英寸基片上采用直流濺射生長150nm的金屬材料和在4英寸基片上、在射頻靶位上采用射頻濺射生長150nm的ZnO、TiO2， 要求鍍膜不均勻性優于±3%。 11、設備配有冷卻循環水冷，制冷量功率不小于5kw。

售后服務要求：

1. 所有設備均須由供方按清單內的保修時間提供整機保修服務，保修期自供需雙方代表在設備驗收單上簽字之日起計算。保修費用計入本合同總價。 2. 保修期內，供方負責對其提供的設備整機進行維修，并且保證每季度上門檢修一次，不再向需方收取費用。 3. 設備故障報修的響應時間：每天8:00～18:00期間為 4 小時。其余期間為 8 小時。 4. 如果設備故障在檢修 12 小時后仍無法排除，供方應在 24 小時內提供不低于故障設備規格型號檔次的備用設備供需方使用，直至故障設備修復。 5. 所有設備保修服務方式均為供方上門保修，即由供方派員到需方設備使用現場維修。由此產生的一切費用均由供方承擔。