加入日期: | 2016.04.28 |
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招標業主: | 深圳大學 |
地 區: | 深圳市 |
關鍵詞: | 質譜儀 平臺 大學 |
項目名稱 |
二次離子質譜儀 | 是否預選項目 |
否 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
采購人名稱 |
深圳大學 | 采購方式 |
非協議采購 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
財政預算限額(元) |
4500000 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
項目背景 |
二次離子質譜儀項目是深圳市財政委員會批復的高水平大學建設項目(大型儀器共享平臺)。
設備主要用途是:二次離子質譜儀應用于半導體材料表面分析和深度剖析;得到樣品表面元素、同位素、化合物組分和分子結構分析;進行深度剖析,可得到樣品表面的三維成像;具有很高的靈敏度。 該設備項目預算為450萬。 |
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投標人資質要求 |
1)投標人”系指響應采購文件要求、參加本次招標采購的供應商。 (1) 投標人必須是來自中華人民共和國或是與中華人民共和國有正常貿易往來的國家或地區(以下簡稱“合格來源國/地區”)的法人或其他組織,在法律上和財務上獨立、合法運作并獨立于招標人和招標機構,具有相關經營范圍,有資格和能力提供本采購項目的貨物及服務的制造商或代理商(或經銷商)。須提供營業執照或企業注冊證明復印件(經營范圍必須涵蓋本次招標貨物,加蓋公章)。深圳大學是科教儀器設備減免稅單位,如果是境外供貨,投標人應有境外供貨與外幣結算資格或者是取得了境外供貨貿易商的投標授權。若投標人按照合同提供的貨物不是投標人自己制造的,投標人應得到貨物制造商同意其在本次投標中提供該貨物的正式授權書原件或是合法代理商(若投標人為合法代理商應出具有效代理證明掃描件,制造商除外)。(2)證明投標人已具備履行合同所需的財務、技術和生產能力的文件。(3)投標人須提供設備在國內的銷售業績表、合同復印件或中標通知書復印件(表中應列出設備的出廠日期、用戶名稱、地址、聯系人及聯系方式***
2)參與政府采購項目投標的供應商近三年內無行賄犯罪記錄(由采購中心定期向市人民檢察院申請對政府采購供應商庫中注冊有效的供應商進行集中查詢,投標文件中無需提供證明材料); |
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具體技術要求 |
1.采購貨物配置功能要求,各設備的主要技術參數、性能規格
設備用途:二次離子質譜儀應用于半導體材料表面分析和深度剖析;得到樣品表面元素、同位素、化合物組分和分子結構分析;進行深度剖析,可得到樣品表面的三維成像;具有很高的靈敏度。
二、 技術指標Technical Specifications:
★1. 多接口不銹鋼超高真空室,真空度低于2E-9mbar
2. 多樣品夾持器,樣品數量可達10個
★3. 質量數范圍大于500amu,5%全質量數范圍內的相連高峰間的谷。離軸采集、高性能高靈敏三級質量過濾四極質譜。
4. 質譜儀具有離子計數檢測器,可進行正負離子檢測,動態范圍:1 :107
★5.具有軟電離的SNMS離子源,可對濺射的中性粒子進行分析
6. SNMS離子源軟電離能量:4 – 150eV,0.1eV分辨率
★7. 儀器靈敏度:1x108 atoms/cm2
★8. 深度分辨率:1-2分子層(靜態),3分子層(動態)
9. 離子槍離子束能量:1 ~ 5K eV
★10. 離子槍離子束流強度:0.1 – 600nA
11. 離子定位與掃描:獨立的XY定位板和偏轉板
12. 離子槍具有差分真空,降低雜質離子的干擾
13. 離子束消隱的上升、下落時間均小于等于3uS
14. 配置樣品裝載Load-Lock,用于快速裝載樣品,真空度可達E-8mbar
★15.Load-lock具有樣品加熱器,進入主分析室之前脫除表面的水蒸氣
16. 配置電子中和槍,用于絕緣樣品分析
17. 配置低溫液氮冷阱,用于樣品分析時,降低真空室背景氣體,提高靈敏度
★18. 配置氧氣溢流,低能量、高深度分辨率的分析中,提高靈敏度、控制和保護樣品形貌發展。
19. 彩色CCD,用于樣品光學成像,50mm 高分辨率鏡頭
★20. 控制系統:二次離子質譜成像采集分析,靜態二次離子質譜圖庫,二次離子質譜后處理
20.1. 控制系統,同時查看樣品成像和質譜數據分析
20.2. 柱狀圖顯示用戶選定的原子質量范圍
20.3. 表面掃描模式,從每一個掃描點獲取數據,用于表面分析
20.4. 趨勢圖顯示70個質量數的信號對時間的變化,用于深度分析
、20.5. 離子槍掃描控制,帶有信號選通控制,用于從掃描柵中央區域獲取數據,避免邊界效應
20.6. 全面的數據導出工具,包括DDE、ASCII和剪貼板,用于詳細的數據和圖片展示
20.7. 自動二次離子質譜離子透鏡調諧和自動質量排列校準以最優化SIMS性能
20.8. 二次離子質譜成像,采集、顯示和存儲SIMS元素成像,二維和三維視圖
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商務需求 |
備注:
1. “(一)免費保修期內售后服務要求”部分,請詳細列明免費保修期內的售后服務要求,內容包括但不限于免費保修期限、售后服務人員配備、技術培訓方案、質量保證、違約承諾、維修響應及故障解決時間、方案等。
2. “(二)免費保修期外售后服務要求”部分,請詳細列明免費保修期外的售后服務要求,內容包括但不限于零配件的優惠率、維修響應及故障解決時間、方案、提供的服務等。
3. “(三)其他商務要求”部分,如有補充,請詳細列明。 |
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技術規格偏離表 |
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商務規格偏離表 |
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評標信息 |
評標信息(設備類不含工程)
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其它 |
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附件 |